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离子渗碳炉

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  • 发布日期:2024-05-27
  • 产品概述
  • 性能特点
  • 技术参数

     离子渗碳炉是在真空容器中,利用辉光放电使渗碳气体电离,所产生的碳离子在电场作用下轰击炉料表面进行渗碳的热处理炉。我公司研制的离子渗碳炉技术先进,获得用户广泛应用和好评。
      
离子渗碳炉有电气控制系统、真空炉体、渗碳气体配气系统、真空测量及控制系统等几大部分组成,炉体的直径和高度可根据工件的尺寸进行设计。
      
离子渗碳工艺是在真空中加热工件,并有高能离子的轰击,致使被处理件表面洁净与活化,再加上渗碳气体由于热分解与电离的双重作用,并在直流脉冲电场的作用 下,使得工件表面附近的空间在短时间内就形成高的碳离子浓度区,从而加速了碳向工件的渗入与扩散,大大缩短渗碳时间。例如880℃,1h的离子渗碳就可获 0.6mm深的硬化层,同常规气体渗碳相比,可以缩短约50%的时间。